お知らせ

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「2021年度一般社団法人日本真空工業会表彰」を受賞しました

 キヤノンアネルバ株式会社 (社長:中島卓実) は、「2021年度一般社団法人日本真空工業会表彰」において、真空装置部門賞を受賞しました。

本表彰は 一般社団法人日本真空工業会 (JVIA) が主催するもので、2021年真空産業に従事し、技術、開発、製造、サービス、営業等の分野で産業及び真空産業の発展に多大な貢献をした候補者の中から日本真空工業会の「表彰委員会」が審査し各賞が選考されます。

この度、弊社から下記の製品が真空産業に対し技術、開発の貢献を評価され選出されました。

キヤノンアネルバは、本受賞を糧にこれからも長年培った超高真空の技術を礎に、お客さまにとって価値の高い真空薄膜製造装置や真空コンポーネント製品を提供し、豊かな社会生活に貢献できるよう努めてまいります。



□ 真空装置部門賞
受賞者:村上匡章、田名部正治、花咲武典
受賞テーマ: EC7430 誘電体成膜用スパッタリング装置製品化


受賞者近影

※詳細は、主催者が発行する真空ジャーナル7月号、主催者HP (下記リンク) でご覧いただけます。