MRAM用ドライエッチング装置 EC8000

MRAM磁性積層膜のマスク・MTJの加工（ドライエッチング）、保護膜の形成処理（CVD）が可能な装置です。

製品情報

MRAMの研究開発

  • 実デバイスで高歩留まりを実現
  • ショートの無い微細パターン加工を実現
  • エッチング後も高MR比を保持
  • CH3OHガスによる低ダメージプロセス
  • 簡易なメンテ性、フレキシブルな装置構成
  • 装置構成：クラスター式
  • 対応基板サイズ：φ300 mm

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