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真空技術で未来を拓く
AI半導体、データセンター、次世代デバイス。その進化を支える真空技術を、キヤノンアネルバから。
見えない真空技術で、半導体の未来を拓く。
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半導体から先端デバイスまで、真空技術でつくる未来。
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真空・プラズマ技術で、半導体製造を進化させる。
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さまざまな成膜技術を、ひとつのプラットフォームへ。
超高真空が実現するナノレベルの微細加工
2026年9月 9日
2026年日本表面真空学会学術講演会ランチョンキヤリア相談会に参加します
『SEMICON Taiwan 2026』ご来場のお礼
2026年8月26日
SEMICON India 2026に出展します
機械学会2026年度年次大会キャリアランチセッションに参加します
SEMICON Taiwan 2026に出展します
トランスファーチャンバー上蓋開閉機構使用上の注意
[お問合せ窓口変更]300シリーズスパッタ装置タイミングベルトの点検及び交換に関するお知らせ
[再掲示]薄膜形成装置における金属薄膜付着部品の取り扱いに関する注意のお願い
製品サイバーセキュリティ情報に関するお知らせ
2026年3月 5日
P-421CA 圧縮機ユニット 後継機種のご案内
2026年1月22日
922-9119 サブリメーション制御装置の販売終了のお知らせ
2025年12月 8日
M-336MXクリスタルイオンゲージ 販売終了のお知らせおよび後継機のご案内
2025年11月 7日
スウェージロック社製 ニードルバルブ 生産終了のお知らせ
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