スパッタリング装置 EB1000

当社の装置ラインナップの中でも低価格で省スペースなスパッタリング装置です。研究開発や材料開発等といった目的用途により、お客様のご要望に応じた最適なシステムに低価格でカスタマイズする事が可能です。

製品情報

  • 研究開発、材料開発
  • ∅2インチカソード3基搭載
  • 3元 co-sputtering
  • 最高800℃までの基板高温加熱
  • 対応基板サイズ：∅4inch、∅6inch、∅8inch、トレイ対応

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