スパッタリング装置 EC7430

キヤノンアネルバ独自のプラズマ制御技術を搭載し、誘電体膜連続成膜時の高いプラズマ安定性を実現したデュアルカソードスパッタリング装置です。コスパッタリング、リアクティブプロセスとの併用により、次世代膜開発だけでなく、量産フェーズのターゲットコスト削減にも貢献します。