スパッタリング装置 FC7100

ゲートファーストHigh-kメタルゲートの成膜装置として、デファクトスタンダードの地位を確立しており、原子層レベルの膜厚均一性/膜厚制御と低ダメージ成膜が特長のスパッタリング装置です。

製品情報

  • ロジック
  • DRAM周辺回路
  • CMOSイメージセンサー
  • 原子層レベルの面内均一性と膜厚制御
  • メタルモード/ポイズンモードの両放電領域における安定した反応性スパッタ
  • リアルタイムモニタリング補正による反応性スパッタ時の優れた光学特性安定性（グラフ1）

グラフ1

  • 対応基板サイズ：∅12inch
  • 搭載モジュール数：最大5モジュール
  • その他 搭載可能モジュール：エッチング、酸化、加熱

お問い合わせ

フォームからのお問い合わせ スパッタリング装置 FC7100 お電話からのお問い合わせ 装置販売拠点へのお問い合わせ