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DRAMのビット線形成用として高い量産実績のあるスパッタリング装置です。今後要求される低抵抗化に対応した、次世代スパッタリングモジュールもラインナップ。現世代から将来世代まで対応可能な装置です。
メモリのビット線などの金属配線
UBM(アンダーバンプメタル)のバリアTi/シードCu
TSV(スルーシリコンビア)のバリアTi/シードCu
グラフ1
搭載モジュール数:最大5モジュール
その他 搭載可能モジュール:エッチング、加熱