MRAM用ドライエッチング装置 NC8000

従来の反応性エッチングでは加工が困難なMRAM多層磁性膜を一括してエッチングすることが可能なイオンビームエッチング装置です。
高い加工性能と生産性を実現できます。

製品情報

MRAMの量産

  • 大口径Gridによる高い均一性と生産性
  • クランプレスホルダーによる全面エッチング
  • OES（光学式エンドポイントシステム）によるMRAM多層膜で使用される各種金属膜の検出
  • 装置構成：クラスター式
  • 対応基板サイズ：φ300 mm

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