2025年度 SP部会賞を受賞

公益社団法人日本表面真空学会が主催する「SP部会賞」を受賞いたしました。本賞は、スパッタリングおよびプラズマプロセス技術ならびにその関連分野の発展に顕著な貢献を果たした業績を表彰するものです。
今回の受賞は、当社独自の放電方式「PLABAS（Plasma Balanced System）」が評価されたものです。本技術は、RFスパッタリングにおいて課題とされてきたアノード消失や放電不安定といった問題を回避しながら、誘電体薄膜の高速かつ高品質な成膜を実現するものです。この点が、学術的な新規性および独自性に加え、産業界への高いインパクトを持つ技術として認められました。
なお、2026年6月10日に機械振興会館において、本表彰の贈呈式および受賞記念講演が執り行われました。

受賞者：齋藤孝之さん、花咲武典さん、後藤辰弥さん、田名部正治さん
業　績：EC7430誘電体成膜用スパッタリング装置の開発・製品化