沿革

年月	できごと
1967.10	日電バリアン（株）創立（本社:港区麻布）
1975.4	本社を府中工場に移転
1977.10	バリアン社との合弁契約解消
1979.11	社名を「日電アネルバ（株）」に変更
1983.4	富士工場　開設 日電アネルバエンジニアリング（株）　設立
1991.2	静岡アネルバ（株）　設立
1993.4	富士第三工場　竣工
1994.7	事業部制導入
1995.10	ISO-9001認証取得 日電アネルバエンジニアリング（株）を合併 社名を「アネルバ（株）」に変更
1996.7	事業部制の変更 FPD（事）、MMD（事）、開発研究所、次世代商品開発本部創設
1997.9	半導体製造装置COSMOSシリーズ発売
1997.10	創立30周年記念式典を挙行
1998.10	ISO-14001認証取得
1999.4	アネルバテクノビジネス（株）　設立
2002.7	静岡アネルバ（株）を吸収合併
2003.10	アネルバテクニクス（株）　設立
2005.10	社名を変更 キヤノンアネルバ（株）（旧アネルバ（株）） キヤノンアネルバエンジニアリング（株）（旧アネルバテクノビジネス（株）） キヤノンアネルバテクニクス（株）（旧アネルバテクニクス（株））
2007.4	富士第四工場　竣工
2007.6	栗木新本社　竣工
2007.8	栗木新本社へ移転
2010.2	キヤノンアネルバエンジニアリング（株）、キヤノンアネルバテクニクス（株）を合併
2013.5	MEMS方式隔膜式真空計M-342シリーズを発売
2013.12	NC7900　STT-MRAM量産向けMTJ多層成膜用スパッタリング装置を発売
2014.5	NC7900　STT-MRAM量産向けスパッタリング装置が「半導体オブザイヤー2014」を受賞
2016.2	隔膜式真空計M-342シリーズに半導体成膜装置向けを追加発売
2016.9	プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』を発売
2016.10	マイクロフォーカスＸ線源『G-311MH』を発売
2017.10	創立50周年
2018.4	原子拡散接合装置『BC7000』を発売
2023.5	原子拡散接合装置『BC7300』を発売
2024.10	半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"を発売
2024.10	半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"がグッドデザイン賞金賞を受賞
2025.02	半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"がiFデザインアワード金賞を受賞